发布时间： 2023-06-09 15:25:49来源：秘书处
4月23-25日，由中国科协新技术开发中心、中国国际光电博览会组委会、深圳市光学光电子行业协会主办的2023中国（成都）国际精密光学技术及应用研讨会在成都环球中心天堂洲际大饭店圆满落幕。
活动现场
25日研讨会专题：光学薄膜前沿技术及设备。由精密光学工程技术研究所创始人，同济大学先进技术研究院院长 王占山老师开场。会议邀请到北京理工大学教授 张楠、布勒莱宝高级研发工艺工程师 Mr. Martin Stapp、苏州大学教授 柳存定、光驰科技 郭祥儒、奇峰蓝达总经理 洪冬梅等薄膜领域知名企业和行业专家学者，针对“提升制备技术、拓展应用场景、维度提升”三个方向，深入探讨光学薄膜制备工艺升级、镀膜技术发展方向以及未来应用前景。
与此同时，会场周围设置展览展示区，展品范围覆盖光学镀膜材料及设备、新型微纳元器件、超精密加工设备、半导体加工设备、光学成像测试测量仪器、光学镜头及摄像模组等，多角度展示精密光学上下游新产品新技术。
现场特设展示交流区
报告从光学薄膜的前沿应用切入，从光学薄膜制作方法与性能演化方向探讨未来可能的发展趋势。王院长表示，“未来光学薄膜将从多目标协同设计、追求极致的性能、应用光学2.0等方面发展。薄膜研制未来将朝着性能优、制作易、价格廉三目标发展。”
报告以“全国产化离子束溅射薄膜沉积装备与工艺解决方案”为主题，主要介绍了离子束溅射技术概况、优势以及与磁控溅射、离子束辅助等薄膜沉积工艺应用技术对比。同时以国产化IBS溅射镀膜设备和工艺案例为例，从软、硬件配置、稳定性以及材料实验结果进行详细介绍。
沈卫星 中国科学院上海光学精密机械研究所 高级工程师
报告以“高精度光控离子溅射沉积设备及工艺实现案例”为主题。以杰莱特前沿镀膜设备为例，主要介绍离子溅射镀膜机配置性能等工业能力，阐述了离子溅射沉积最新解决方案。
报告以“微纳光学/3D件镀膜解决方案介绍”为主题，主要在参数、测试等方面展示其在超微结构表面以及3D件方面进行ALD镀膜的解决方案。并表示：“该方案能够在杂基板表面达到高保形性，高均匀性的特点。”
报告从光学薄膜应用与光学性能测试面临的三大挑战：拓展性、检测极限、特殊形态样品出发。以安捷伦最新产品：Cary7000全能型紫外可见近红外分光光度计为例，提供全新精密光学行业测试解决方案。
报告从光刻镀膜研究背景出发，提出“光刻步骤决定了集成电路器件的关键尺寸”这一观点。并以投影光刻机镀膜技术难点以及需求为基础，主要研讨光刻镜头镀膜分析基础和镀膜设备研发问题。
报告根据当前激光器提高能量以及扩展波长两个重要发展方向，指出薄膜是激光器的瓶颈之一。以“激光薄膜的研究及制备”为主题，主要介绍了中红外激光薄膜和高功率激光薄膜的特点与作用，从各类技术指标参数描述激光薄膜膜层制作工艺以及其光谱特性。
报告讲从当前硫系玻璃镀膜的可靠性 、光谱特性、面型精度以及表面质量四大要求出发。主要讨论了硫系玻璃现状，以及硫系玻璃所遇到的光学常数、吸收、面型控制、膜层失效等问题。季研究员表示：“硫系玻璃在产业化的拓展过程中，镀膜后还存在改进的方面，需要材料、光学加工、镀膜和测试分析共同努力！”
报告以“精密光学PVD镀膜工艺解决方案”为主题。从镀膜技术未来发展趋势出发，主要介绍了硬AR+DLC+AF涂层性能工艺、车载HUD和车载激光雷达光学镀膜工艺以及相关PVD镀膜工艺的相关原理、镀膜要求以及应用领域，并讲解相应的镀膜工艺解决方案。
报告以“服务于精密光学领域的磁控溅射镀膜设备”为主题，主要从设备特点、设备性能等，介绍卧式磁控溅射双面镀膜机和多室磁控溅射镀膜设备，探讨其在精密光学、车载、超硬涂层等领域的应用和优势。
报告以“光学薄膜工艺控制在光学传感微纳结构中的应用研究”为题，主要探讨如何通过控制光学薄膜工艺、利用非光刻技术制备大面积低成本的光学传感微纳结构，从而实现对共振峰波长、共振吸收谱宽度和强度的有效调控。并且深入探索其在毒品检测、癌细胞检测等实际场景中的应用，并对光学传感和薄膜工艺的未来发展做出一些展望。
