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【活动】大咖齐聚!与行业领袖对话 | 2025中国(成都)国际精密光学技术与应用大会

发布时间: 2025-04-11 14:24:57来源:CIOE中国光博会

2025中国(成都)国际精密光学暨机器视觉技术应用大会

时间:2025年4月22-23日

地点:成都环球中心天堂洲际大饭店         

主办单位:中国科协新技术开发中心、中国国际光电博览会组委会、深圳市光学光电子行业协会

协办单位:中国光学学会先进制造委员会、同济大学、香港应用科技研究院

承办单位:深圳贺戎博闻展览有限公司

支持单位:中国科学院光电技术研究所

同期展览:会场周围设置展览展示区

参会报名

4月22-23两日论坛:免费(火热报名中)

4月22-23两日论坛+欢迎晚宴:300元/位(包含听会、茶歇、欢迎晚宴、抽奖、会议资料、礼品等) 


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“2025中国(成都)国际精密光学技术与应用大将于2025年4月22-23日,在成都环球中心天堂洲际大饭店举行。


会议特邀精密光学工程技术研究所创始人 王占山教授、西湖大学副校长 仇旻教授、天津市ACSM制造与检测技术重点实验室主任,天津大学 张效栋教授等知名专家,以及布勒莱宝、Cutting Edge Coatings、欧光芯、天仁微纳、知常光电等知名企业高层参会演讲。围绕微纳光学前沿技术、超精微纳加工技术、半导体量测技术、光学薄膜高精度制作技术等多个热门专题,助推学术与产业融合,实现商业化落地。

部分嘉宾演讲摘要





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王占山

精密光学工程技术研究所 创始人

演讲主题:人工智能赋能光学薄膜技术研究

演讲摘要: 本次报告聚焦于人工智能技术在光学薄膜领域的应用情况,着重阐述了其于光学薄膜设计以及薄膜特性分析这两个关键层面所达成的主要进展。此外,报告深入探究了后续进一步研究的潜在方向,以及在实际应用中可能拓展的领域。为光学薄膜领域的持续发展提供具有前瞻性的思考与方向指引。




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仇旻

西湖大学 副校长

演讲主题:碳化硅光子学:碳化硅纳米光子器件的设计与制造

演讲摘要:本次报告将介绍我们近期在使用 SiC 设计和制造高性能超透镜以及用于增强现实(AR)显示的下一代衍射波导方面的研究进展和成果。

首先,为解决传统光学透镜在汇聚高能光束时因严重吸热而导致的聚焦漂移问题,设计并制备了一种大尺寸的 4H-SiC 超透镜,其热漂移低,实现了接近衍射极限的聚焦性能。然后,针对超构透镜平面拓扑优化算法中的敏感性和不可预测性、有限的自由度以及全波模拟导致的巨大 CPU 内存和时间消耗等问题,提出了一种反向设计优化算法来设计具有高数值孔径和消色差像差的超构透镜。

为了解决全彩衍射波导AR眼镜因多层波导而导致的体积大、环境光引起的彩虹伪影以及来自光投影仪的散热难题,提出了一种超薄、超轻的AR眼镜,采用单层全彩 SiC 衍射波导,消除了彩虹伪影。

我们的工作为超紧凑光学器件的设计提供了新思路,有望推动高性能 SiC 纳米光子器件的发展和应用。




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张效栋

天津大学 教授

天津市ACSM制造与检测技术重点实验室 主任

演讲主题:自由曲面光学系统的技术演进与产业化应用

演讲摘要: 自由曲面光学系统在光学领域的应用历史可追溯至20世纪50年代。然而,受设计与制造技术限制,直至21世纪10年代,这一技术的全部潜力才真正得以释放。近年来,在行业持续攻坚下,光学自由曲面制造工艺取得重大突破,使其在抬头显示器、短焦投影等尖端领域得到广泛应用。越来越多的需求方开始积极拥抱这一新兴光学系统。作为自由曲面光学领域的先行者,天津大学微纳制造实验室(MNMT)不仅投入大量研发资源,更在实用化方面展现出卓越能力。在当前自由曲面技术快速演进的时代背景下,该实验室不仅持续拓展应用边界,更深入探索成本控制、产线自动化及智能化方向,取得了一系列前沿成果。本报告将系统梳理这些关键技术的研究进展,旨在为后续科研工作提供重要参考与指导,携手推动自由曲面光学系统向更广阔的应用场景迈进。




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张琬皎

杭州欧光芯科技有限公司 总经理

演讲主题:纳米压印工艺及在AR眼镜和超透镜领域的应用

演讲摘要: 随着纳米压印技术的渐渐成熟,近几年开始越来越多的被应用在微纳光学领域,如衍射光学元件DOE、微透镜阵列、AR衍射光波导镜片、线栅偏振片及超透镜等。演讲将介绍使用纳米压印技术制作AR衍射光波导镜片和超透镜的技术方案以及从原始模具、拼版模具到纳米压印量产的每个关键工艺环节。在科研领域,超透镜的制作主要使用电子束直写,但其加工速度慢,无法实现量产。低成本的量产方案是将超透镜从科研推向产业化应用的关键。我们研发了两种采用纳米压印制作大面积超透镜的量产方案,也会在演讲中介绍展示最新成果。




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Dr. Kunz, Alexander

布勒莱宝光学阿尔策瑙有限公司 全球精密光学销售经理

演讲主题:薄膜涂层技术助力深紫外技术的发展

演讲摘要: 如今,工业和研究机构对紫外光学膜层的要求越来越高。深紫外(DUV)技术作为整个工业领域的推动者,广泛服务于半导体和光学计量行业,能够制造更小、更密集的结构。DUV技术将芯片制造的极限和研究的可能性推进到了193nm波长。布勒莱宝光学是DUV 光学应用镀膜设备的提供商。能够满足各种尺寸的紫外光学器件膜层的高精度和光学性能要求。我们的SYRUSpro DUV设备,满足了客户的需求,还提供了卓越的膜层性能,助力DUV客户引领技术前沿。




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吴周令

合肥知常光电科技有限公司 首席科学家

演讲主题:光学缺陷检测技术在半导体晶圆与芯片领域的应用

演讲摘要: 缺陷检测是半导体晶圆和芯片制造过程中不可或缺的关键工艺步骤之一,几乎贯穿了芯片制造的每一个工艺流程,缺陷检测的要求是与制程工艺节点相对应的。越先进的工艺制程,缺陷检测的灵敏度和精度要求越高。光学缺陷检测技术因为其具有非接触式、效率高、检测方式多样等优点,是目前半导体产业界最主流的技术,广泛应用于硅基晶圆和芯片,以及各类先进化合物半导体晶圆和芯片的缺陷检测。

活动日程安排


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*具体日程安排以现场为准。


参会报名

4月22-23两日论坛:免费(火热报名中)

4月22-23两日论坛+欢迎晚宴:300元/位(包含听会、茶歇、欢迎晚宴、抽奖、会议资料、礼品等)


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会议议程


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*以上议程请以现场为准



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赞助企业


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会议咨询
赞助、参展咨询

 戴女士

 0755-88242572


 张先生

 0755-88242533


往届回顾

CIOE中国光博会于2023年和2024年连续两届在成都成功举办光学会议活动。活动采用“以会带展”模式,通过“会议+展台”的形式,全方位打造了光电产业及其下游应用领域的交流互动平台。

活动成功吸引了多方领域观众参与,其中包括摄像头及应用、AR&VR、汽车电子、手机等行业的专业人士。每届活动平均80+家企业参展,约1000+名观众出席,充分彰显了CIOE会议活动在相关领域的强大影响力与吸引力。

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